3.1. | Системы, оборудование и компоненты | |
3.1.2. | Нижеперечисленная электронная аппаратура общего назначения: | |
3.1.2.7. | Атомные эталоны частоты, имеющие любую из следующих характеристик: | 854320000 |
| б) годные для применения в космосе | |
3.2. | Испытательное, контрольное и производственное оборудование | |
3.2.1. | Нижеперечисленное оборудование для производства полупроводниковых приборов или материалов и специально разработанные компоненты и оснастка для них: | |
3.2.1.1.2. | Установки химического осаждения паров металлорганических соединений, специально разработанные для выращивания кристаллов сложных полупроводников с помощью химических реакций между материалами, которые контролируются по пункту 3.3.3 или 3.3.4 раздела 1 Списка | 841989900 |
3.4. | Программное обеспечение | |
3.4.1. | Программное обеспечение, специально созданное для разработки или производства оборудования, контролируемого по пункту 3.1.2.7 или 3.2 настоящего раздела Списка | |
3.5. | Технология | |
3.5.1. | Технологии, в соответствии с общим технологическим примечанием предназначенные для разработки или производства оборудования, контролируемого по пункту 3.1 или 3.2 настоящего раздела Списка | |